Filme finos de nitreto de zircônio e silício, amorfos e cristalinos, contendo 8 at.% de Si (Zr39Si8N53) foram depositados via magnetron sputtering reativo com o intuito de investigar o principal fator que determina as propriedades mecânicas e térmicas desses filmes finos: a cristalinidade ou o teor de silício. As amostras cristalinas de Zr39Si8N53 exibiram mudanças na orientação preferencial de crescimento e redução no tamanho de cristalito quando comparados à amostra Zr46Si2N52. Essas modificações estruturais causaram um aumento superior a 35% nos valores de dureza em comparação com a amostra amorfa Zr39Si8N53, confirmando a influência direta da cristalização nessa propriedade mecânica. Todas as amostras cristalinas falharam nos testes de oxidação em alta temperatura, enquanto apenas a amostra amorfa Zr39Si8N53 demonstrou resistência à oxidação a 600 °C, indicando que o alto teor de Si combinado com uma estrutura amorfa desempenham um papel fundamental na melhoria da resistência à oxidação em filmes finos de Zr-Si-N.